美光本周二公布其用于 DRAM 的 1α新工艺，该技术有望将 DRAM 位密度提升 40%，功耗降低 15%。
1α工艺最初被用于生产 DDR4 和 LPDDR4 内存，未来或将覆盖美光所有类型的 DRAM。
同时，美光提到要实现 DRAM 的规模化仍很困难。鉴于 EUV 技术带来的性能优化还无法抵消设备成本和生产困难，美光近期不打算引入 EUV 光刻技术，考虑在未来的 1
关键词： 美光
美光本周二公布其用于 DRAM 的 1α新工艺，该技术有望将 DRAM 位密度提升 40%，功耗降低 15%。
1α工艺最初被用于生产 DDR4 和 LPDDR4 内存，未来或将覆盖美光所有类型的 DRAM。
同时，美光提到要实现 DRAM 的规模化仍很困难。鉴于 EUV 技术带来的性能优化还无法抵消设备成本和生产困难，美光近期不打算引入 EUV 光刻技术，考虑在未来的 1
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