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挖孔也要消失!苹果新专利获授权:屏下Face ID真的稳了

时间:2022-04-12 13:50:33       来源:雷科技

4月12日,美国专利商标局已正式授予苹果一项专利,该专利消除了iPhone的刘海,并将原有的深感摄像头模组放置在了手机显示屏下方。苹果新专利获授权,让我们对真全面屏iPhone充满希望。

从公开的专利图,我们可以看到屏下Face ID与当前刘海屏的效果区别,以及这项技术的工作原理,前置相机、Tof、点阵投影仪等组件隐藏在显示屏下方。苹果在专利中指出,全部前置组件都在屏幕下方,但各个组件与显示屏的距离都不尽相同。

苹果iPhone的屏下Face ID一直是用户心心念念却又无法实现的功能,从目前的爆料来看,今年发布的iPhone 14 Pro/Pro Max只是取消了祖传的刘海屏,换上了“感叹号”挖孔设计,屏占比得到了进一步提升,不过挖孔面积可不小,据说其直径达到了5.6毫米,远大于安卓机的挖孔。

天风国际分析师郭明錤近日表示,屏下Face ID将会在2024年的iPhone 16系列中出现,这个时间点发布更像是出于营销目的,而非技术问题。不过,对于屏下Face ID,郭明錤也只是猜测,啥时候量产还得看苹果的心情。

大步向真全面屏进发的安卓阵营,最近除了摩托罗拉edge X30屏下版外,几乎没有其它关于屏下摄像机型的消息。小雷认为,很可能是屏下摄像技术发展遇到了瓶颈,一时间内无法进一步突破。

屏下摄像如今面临的最大问题,还是无法兼顾高分辨率,目前绝大部分搭载屏下摄像的机型,屏幕基本都是1080P,考虑到屏下区域的显示效果,暂时还做不到2K这样的分辨率。

此外,以目前的技术,屏下区域的显示亮度也难以跟显示屏的其它部分持平,而且纱窗效应依旧存在,绝大部分的用户应该都不喜欢为了去掉挖孔,妥协屏幕的显示素质,毕竟显示屏是手机使用频率最高的一个部分。

另一方面,屏下摄像技术还没完全成熟,生产成本也不算很低,厂商很少会将其应用到高端旗舰或者是下放到更便宜的机型上,为了确保显示效果,主流的全面屏形态依旧是挖孔。

对于苹果,显示效果的优先级肯定是比真全面屏形态更高,也许等到能兼顾显示与形态的屏下Face ID技术,真全面屏时代离我们就不远了。

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